換言之，電暈機(jī)功率板模塊型號電暈表面處理器電路的選擇性由電路的Q元件決定，功率完整性的Q值越高，選擇性越好。電暈器功率完整性的解耦編程方法為了保證邏輯電路的正常工作，需要將電路的邏輯狀態(tài)電平值按一定比例降低。例如，對于3.3V邏輯，大于2V的高電壓為邏輯1，小于0.8V的低電壓為邏輯0。將電容器放置在電源插頭和地插頭之間的相鄰器件和電橋上。正常情況下，電容器充電并儲存部分電量。

一般認(rèn)為，電暈機(jī)功率板模塊型號流動(dòng)電暈反應(yīng)器中高能電子的密度和平均能量主要由反應(yīng)氣體流量一定時(shí)的電暈?zāi)芰棵芏葲Q定。隨著電暈功率的增加，體系中高能電子的密度和平均能量增加，高能電子與C2H6分子發(fā)生彈性和非彈性碰撞的概率以及轉(zhuǎn)移的能量增加，C2H6的C-H鍵和C-C鍵斷裂的可能性增加，斷裂形成的自由基濃度也增加，自由基通過復(fù)合形成產(chǎn)物的概率增加。

由于電暈是高活性、高能物質(zhì)的集合體，電暈機(jī)功率板模塊型號電暈表面清洗活化主要是利用電暈中的高活性物質(zhì)、高能粒子和紫外輻射作用于高分子材料表面，使其表面發(fā)生物理或化學(xué)變化。根據(jù)不同的電暈，反應(yīng)會有所不同，有時(shí)只會發(fā)生材料表面的物理變化；高能粒子轟擊材料表面，導(dǎo)致材料表面出現(xiàn)凹凸不平的斑點(diǎn)，改變其粗糙度，或者將能量傳遞給表面基團(tuán)使其活化，導(dǎo)致表面能發(fā)生變化。

簡單如開頭所說，電暈機(jī)功率調(diào)不上去電暈清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行（一般需要保持在Pa周圍），因此需要真空泵抽真空。

電暈機(jī)功率板模塊型號

電弧電暈炬主要由陰極（用工件代替陽極）或陰陽極、放電室和電暈供氣系統(tǒng)組成。電暈炬按電弧電暈的形式可分為非轉(zhuǎn)移弧炬和轉(zhuǎn)移弧炬。在非轉(zhuǎn)移電弧炬中，陽極同時(shí)充當(dāng)炬的噴嘴；在轉(zhuǎn)移電弧炬中，陽極是指電弧離開炬而被轉(zhuǎn)移的加工工件。當(dāng)然，也有既有轉(zhuǎn)移弧又有非轉(zhuǎn)移弧的組合式電暈炬。由于電弧電暈炬中存在陰極損耗，必須將陰極材料混入電暈中。根據(jù)不同的工程需要，可選用不同損耗程度的材料作為陰極。

電暈機(jī)功率板模塊型號