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等離子清洗機(jī)支持手動(dòng)和主動(dòng)操作,防腐涂料 附著力劃算法體積和專有的等離子過(guò)程控制實(shí)現(xiàn)無(wú)與倫比的短周期時(shí)間,并使用專有算法在幾秒鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)腔室的高功率。手動(dòng)和主動(dòng)式等離子清洗機(jī)(內(nèi)置或內(nèi)置處理程序),特別均勻和緊湊的腔室設(shè)計(jì)允許可互換的處理配置和等離子形式。三軸對(duì)稱的等離子體室確保了產(chǎn)品各個(gè)方向的均勻加工,同時(shí)嚴(yán)格控制所有工藝參數(shù)確保了產(chǎn)品之間的可重復(fù)結(jié)果。

如前文所述,防腐涂料 附著力劃算法HBr/O2對(duì)N型摻雜多晶硅的蝕刻率比未慘雜多晶硅高20%,極易產(chǎn)生縮脖效應(yīng),因此 HBr/O2的過(guò)蝕刻量要嚴(yán)格控制,一般以30%為宜,過(guò)少的過(guò)蝕刻量會(huì)導(dǎo)致多晶硅柵側(cè)壁底部長(zhǎng)腳(Footing),過(guò)多的過(guò)蝕刻量會(huì)導(dǎo)致上部縮脖效應(yīng)加劇。 等離子表面處理機(jī)過(guò)蝕刻步驟盡管采用具有針對(duì)柵氧化硅較高蝕刻選擇比的HBr/O2蝕刻工藝,仍然容易導(dǎo)致硅穿孔(Pitting)及硅損傷。

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一般來(lái)講,的真空plasma表面處理設(shè)備所使用的真空泵組分為三大類,一類是旋片真空泵加羅茨真空泵的油式泵組;另一類是螺桿真空泵+羅茨真空泵的干式泵組;還有一類是分子泵加分子泵的機(jī)械泵組。大腔體的真空型表面等離子處理設(shè)備機(jī)需采用真空泵組,并且真空泵組的選擇也十分講究,如果想了解產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用方面有任何疑問(wèn),歡迎點(diǎn)擊 在線客服咨詢, 恭候您的來(lái)電!。

2.自由電子的能量由其速度V決定,從原子和分子的內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析,根據(jù)量子力學(xué)原理,它們可以處于大量不同能態(tài)中的任意一種,這些能態(tài)可以按照能量的大小排列成能級(jí)圖。3.原子的能級(jí)圖是由原子內(nèi)部的所有粒子決定的。未受擾動(dòng)的原子和分子一般處于最穩(wěn)定的基態(tài)能級(jí),但我們只對(duì)最外層電子即價(jià)電子的能量感興趣,因?yàn)檫@些電子主要參與氣體放電過(guò)程。價(jià)電子從外界得到額外的能量,它可以躍遷到更高能級(jí),原子處于激發(fā)態(tài)。

因?yàn)楣β室?guī)?;痉€(wěn)定,頻率是影響等離子體自偏壓的關(guān)鍵參數(shù),跟著頻率的添加自偏壓逐漸下降。此外,跟著頻率的添加等離子體中電子的密度也會(huì)逐漸添加,而粒子均勻能量逐漸下降。 2.4作業(yè)氣體的挑選對(duì)等離子清洗效果的影響工藝氣體的挑選是等離子清洗工藝規(guī)劃的關(guān)鍵步驟,盡管很多時(shí)分大多數(shù)氣體或氣體混合物都能對(duì)污染物起到去除效果,但清洗速度卻能相差幾倍甚至幾十倍。

防腐涂料 附著力劃算法

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